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开发出微小线宽图形写入擦除技术
作者:转载    转贴自:科技长廊    点击数:836    文章录入: zhaizl

哈尔滨工业大学材料学院材料物理与化学系王铀教授课题组完成的,以纳米尺度哈工大英文缩写“HIT”为标志性图案的论文将于近日在国际著名纳米科技期刊Small(SCI期刊影响因子IF: 6.4)上发表。
该课题组在国家863专项课题资助下,依托“哈工大微纳米技术研究中心”教育部重点实验室平台,在高密度信息存储技术领域的研究获得突破。课题组成功地开发出小于20 nm线宽的图形写入与擦除技术,并已申报国家发明专利。该项技术可实现20 nm线宽凹、凸图案高速写入,并根据需要可以对写入的图案进行高速擦除。论文的研究工作得到两位国际评阅专家的高度评价。
课题组的另一项工作也已于近期发表在高分子领域国际著名期刊《大分子》(Macromolecules) 上。2008, 41, 5799(SCI期刊影响因子IF: 4.4)。
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