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研究发现日光过敏症致病基因
作者:转载    转贴自:科技长廊    点击数:70    文章录入: zhaizl

日本一个研究小组4月2日宣布,他们发现紫外线敏感性综合征的一个致病基因,这一发现将有助于今后弄清人的皮肤被晒伤的机制,从而研究出相关防晒伤的新方法。该成果已刊登在《自然—遗传学》杂志网络版上。
日本长崎大学和佳丽宝公司的联合研究小组在东京宣布,这项研究开展于2010年7月,他们通过利用能在短时间内对人类基因组DNA序列进行解析的最新技术——下一代基因序列解析法,确定了一个可能是紫外线敏感性综合征患者致病原因的基因变异。研究人员发现,由于这个基因出现变异,导致无法产生对受损的DNA进行快速修复的蛋白质,或者产生的量非常少,研究小组将这种基因命名为UVSSA。研究人员对紫外线敏感性综合征患者进行基因修复后,肌体对DNA进行快速修复的功能恢复到了与健康人同等的水平。
研究人员高桥庆人指出,紫外线敏感性综合征除了强烈日晒症状外基本没有其他症状,是一种轻度的遗传性光敏性疾病,发现30多年来其致病原因一直未解。今后通过对该基因进行详细分析,将有助于开发出防止皮肤被晒伤的新方法。
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